Produkteigenschaften:
Luvos Heilerde Reinigungs-Maske
Der tiefenreinigende und klärende Wirkstoffkomplex aus naturreiner Heilerde mit wertvollen Mineralien und Spurenelementen, adstringierendem Hamamelis-Extrakt, Zink und pflegendem Aprikosenkernöl befreit die Haut porentief von Schmutzpartikeln, Feinstaub und Ablagerungen. Schenkt bei regelmäßiger Anwendung nachweislich eine glattere Hautoberfläche, verfeinert Poren und nimmt Glanz.
Anwendung:
Die Maske gleichmäßig auf Gesicht, Hal (und Dekolleté) auftragen, dabei Augen- und Mundpartie aussparen. Nach ca. 10-15 Minuten die Maske mit lauwarmem Wasser und einem Pad leicht massierend abnehmen.
Inhaltsstoffe:
Aqua, Sorbitol, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil*, Alochol, Glycerin, Glyceryl Stearate Citrate, Loess, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Prunus Armeniaca (Apricot) Kernel Oil*, Zinc PCA, Salvia Officinalis (Sage) Leaf Extract*, Hamamelis Virginiana (with Hazel) Leaf Extract, Xanathan Gum, Stearic Acid, Palmitic Acid, Magnesium Aluminium Silicate, Tocopherol, Levulinic Acid, Sodium Levulinate, Sodium Hydroxide, Parfum (Natural Essential Oils), Citral**, Geranol**, Limonene**, Linalool**, CI 77891 (Titanium Dioxide), CI 77492 (Iron Hydroxides).
* Rohstoffe aus kontrolliert biologischem Anbau.
** Bestandteile des natürlichen Parfümöls.
Quelle: www.luvos.de
Stand: 06/2021
Hinweis: Weiterführende Angaben zum Hersteller finden Sie
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